США могут первыми в мире взрастить собственного конкурента ASML. Стартап Substrate предлагает использовать для литографии рентгеновское излучение

Автоматически добавлена на сайт: вчера в 18:43



Современный мир сложно представить без компании ASML. Она неизвестна большинству обычных людей, не касающихся темы полупроводников, но именно её литографические машины используются почти всегда, когда речь заходит о создании хоть сколько-то современных чипов. И вот в США появилась компания, которая готова оспорить монополию голландцев.   Фото Substrate  Американский стартап Substrate планирует заняться разработкой литографических машин, работающих на несколько других принципах, нежели машины ASML.   Речь идёт о создании литографического оборудования, сопоставимого с установками ASML EUV, но вместо привычного экстремального ультрафиолетового излучения Substrate планирует использовать коротковолновое рентгеновское излучение, генерируемое ускорителем частиц.  Стартап уже привлек 100 млн долларов благодаря инвесторам, включая Founders Fund, и достиг оценки в 1 млрд долларов.  Substrate утверждает, что благодаря своей уникальной технологии может снизить стоимость использования по сравнению EUV-оборудованием ASML. Компания уже представила свою технологию, и некоторые эксперты назвали её впечатляющим достижением.   Substrate планирует использовать рентгеновское излучение с более короткой длиной волны, чем EUV-излучение 13,5 нм, что обеспечивает более надёжную печать. Стартап утверждает, что ему удалось значительно снизить стоимость литографии чипов. 

ЗДЕСЬ МОЖЕТ БЫТЬ ВАША РЕКЛАМА

Разместить рекламу за 5 ₽/день