Россия и Белоруссия совместно создали литограф для производства 130-нанометровых чипов
Автоматически добавлена на сайт: 14:17
Россия и Белоруссия совместно изготовили опытный образец литографической установки для производства микросхем по техпроцессу 130 нм. Об этом заявил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров на пленарной сессии форума «Микроэлектроника».