В России разработали материал для полировки пластин при производстве чипов

Автоматически добавлена на сайт: 20:52



Учёные Нижегородского государственного университета имени Лобачевского запатентовали технологию глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния, который используется при создании полировальных суспензий для производства микросхем. Разработка позволяет контролировать размер, форму и однородность частиц, а также снижать содержание примесей. Технологическая линия и регламент получения материала уже подготовлены, созданная суспензия направлена индустриальному партнёру для испытаний.

ЗДЕСЬ МОЖЕТ БЫТЬ ВАША РЕКЛАМА

Разместить рекламу за 5 ₽/день